荷兰光刻设备巨头ASML宣布，其研发团队已实现极紫外（EUV）光源功率从600瓦提升至1000瓦的技术突破，预计可使芯片制造效率提升50%，并有望在2030年前将每台设备每小时处理晶圆数量从220片提升至330片。该技术通过优化锡液滴数量与激光成型方式实现，ASML称其具备量产条件，有助于巩固其在全球先进制程设备市场的领先地位，应对美国及中国竞争对手的挑战。